2-metil-2-adamantanol akrilat

　　Bidang Aplikasi Teras dan Senario Tipikal

　　1. Resis Fotolitografi Semikonduktor

　　Resis Fotolitografi ArF: Sebagai monomer resin matriks, apabila digabungkan dengan α-butilakrilat metil (GBLMA) dan 3-hidroksi-1-adamantil akrilat (HADA), ia boleh menghasilkan resis fotolitografi kepekaan tinggi dengan resolusi sehingga 120 nm. Struktur adamantannya mengawal kadar pelarutan melalui tindak balas pengasidan, dan kontras pembangunan mencapai 3.8 selepas pendedahan laser 193 nm, memenuhi keperluan proses lanjutan.

　　Resis Negatif: Selepas membentuk kompleks inklusi dengan siklodekstrin, ia boleh membina rangkaian saling silang supramolekul, mengekalkan kelembutan koloid walaupun dalam persekitaran beku pada -30℃, digunakan untuk pelabelan automatik beg darah sejuk, menyelesaikan masalah kerapuhan gam akrilat tradisional pada suhu rendah.

　　2. Bahan Optik

　　Salutan Indeks Pembiasan Tinggi: Apabila digabungkan dengan diakrilat isosorbida, ia boleh menghasilkan resin lutsinar dengan indeks pembiasan 1.58, digunakan untuk lensa kamera telefon pintar; kadar transmisi cahayanya (88%) dan kekerasan anti-calar (4H) lebih baik daripada bahan PMMA yang dijual di pasaran.

　　Lens Pengeringan Cahaya: Menambah 5-10% MAA ke dalam sistem pengeringan UV boleh meningkatkan keseragaman indeks pembiasan lensa kepada Δn<±0.0005, sesuai untuk elemen optik mikro/nano peranti AR/VR.

　　3. Gam Berprestasi Tinggi

　　Gam Tahan Alam Melampau: Melalui polimerisasi bersama dengan akrilat poliuretana, ia boleh menghasilkan gam struktur yang tahan kitaran suhu dari -50℃ hingga 180℃, digunakan untuk perekat bahagian enjin pesawat; kekuatan ricihnya (22 MPa) dan jangka hayat keletihan (10¹⁰ kitaran) jauh melebihi gam epoksi tradisional.

　　Gam Tekanan Peka Biodigradasi: Apabila digabungkan dengan polimer blok poliasid laktik, ia boleh menghasilkan pita mesra alam yang terurai sepenuhnya dalam masa 30 minit selepas terkena air, menyelesaikan batasan penggunaan gam akrilat tradisional dalam kerja lapangan.

　　4. Bahan Respons Pintar

　　Hidrogel Sensitif Suhu: Melalui polimerisasi bersama dengan N-isopropilakrilamida, ia boleh membina hidrogel pintar dengan LCST (Suhu Pelarutan Kritis Terendah) 32℃, digunakan untuk sistem pembebasan ubat terkawal; kadar pembengkakannya (500%) dan kekuatan mekanikal (264 kPa) lebih baik daripada hidrogel PNIPAM biasa.

　　Polimer Respons Cahaya: Dengan memperkenalkan MAA melalui polimerisasi radikal bebas, ia boleh menghasilkan resis fotolitografi yang mengalami pengecutan isipadu (kadar pengecutan 12%) di bawah cahaya 365 nm, digunakan untuk pembentukan ketat Sistem Elektromekanikal Mikro (MEMS).

CAS NO：249562-06-9

EC NO：

Formula Molekul：C₁₄H₂₀O₂

Jisim Molekul：220.3074

Nama Lain：

Struktur：